DescriçãoIngredientes
Descubra a inovadora base de maquiagem Skin Silk da Revolution , uma experiência de beleza revolucionária que combina a suavidade da seda com a leveza do ar, realçada pelos cuidados com a pele.
Este inovador sérum de cobertura leve a média é enriquecido com ácido hialurônico e um complexo de peptídeos, desenvolvido para preencher e hidratar a tez, ao mesmo tempo que lhe confere um toque de cor natural e radiante.
Com esta base leve e respirável, você pode obter uma cobertura sutil ou em camadas para um efeito de segunda pele sem esforço.
Ele vem em um luxuoso recipiente de vidro e proporciona uma aplicação precisa e controlada.
Por que sua pele vai adorar Skin Silk:
- Perfeito para todos os tipos de pele.
- Acabamento acetinado suave e radiante que disfarça imperfeições.
- Fórmula leve e respirável para cobertura edificável.
- Alimentado por ácido hialurônico superhidratante e peptídeos estimuladores de colágeno.
Você pode aplicar essa base com pincel, com os dedos ou com uma esponja esfumadora.
Disponível em uma ampla gama de tons
Vegan.
Cruelty free.
AQUA (WATER, EAU), DIMETHICONE, ISODODECANE, C13-15 ALKANE, ETHYLHEXYL STEARATE, GLYCERIN, PENTAERYTHRITYL TETRAISOSTEARATE, CAPRYLYL METHICONE, CETYL PEG/PPG-10/1 DIMETHICONE, SILICA, QUATERNIUM-90 BENTONITE, ISOBUTYLMETHACRYLATE/BIS-HYDROXYPROPYL DIMETHICONE ACRYLATE COPOLYMER, SODIUM CHLORIDE, TRI(POLYGLYCERYL-3/LAURYL)HYDROGENATED TRILINOLEATE, PHENOXYETHANOL, DIVINYLDIMETHICONE/DIMETHICONE CROSSPOLYMER, DEXTRIN PALMITATE, TRIETHYL CITRATE, LECITHIN, POLYHYDROXYSTEARIC ACID, CAPRYLYL GLYCOL, PARFUM ( FRAGRANCE), TOCOPHERYL ACETATE, ETHYLHEXYL PALMITATE, ISOPROPYL MYRISTATE, ISOSTEARIC ACID, POLYGLYCERYL�3 POLYRICINOLEATE, PENTAERYTHRITYL TETRA-DI-T-BUTYL HYDROXYHYDROCINNAMATE, BUTYLENE GLYCOL, SODIUM HYALURONATE, POLYSORBATE 20, CARBOMER, ETHYLHEXYLGLYCERIN, PALMITOYL TRIPEPTIDE-1, PALMITOYL TETRAPEPTIDE-7, HEXYL CINNAMAL, BENZYL SALICYLATE, CI 77491 (IRON OXIDES), CI 77492 (IRON OXIDES), CI 77499 (IRON OXIDES), CI 77891 (TITANIUM DIOXIDE).
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